塗布、現像装置及び塗布、現像方法並びにコンピュータプログラム

【課題】基板にレジスト膜を形成し、液浸露光した後の基板に対して現像処理を行う装置において、液浸露光により基板上に残留する水滴によるレジストパターンの解像に対する悪影響を抑えること。 【解決手段】基板に付着した液滴はある時間が経つと、そのサイズが急激に小さくなり、このとき基板のレジスト膜に変質層（ウオータマーク）が形成されることに着眼し、液浸露光後に液滴のサイズが急激に小さくなっていく時間帯に入る前の時間帯にて基板が洗浄部で洗浄されるように基板の搬送制御を行う。具体的には露光装置から搬出準備信号が出力されたときに、インターフェイス部の基板搬送手段が他の搬送作業に優先して搬送ステージ上の基板を洗浄部に搬送する。 【選択図】図４