systÈme d'Éclairage pour lithographie EUV ET premier et second ÉlÉmentS optiqueS À utilisER dans un système d'ECLAIRAGE de ce type

L'invention concerne un systeme d'eclairage pour lithographie EUV permettant d'eclairer un champ d'eclairage predetermine (2) d'une surface d'objet avec une radiation EUV (4). Le systeme d'eclairage possede une source pour la radiation EUV (4). Un premier element optique (7) sert a produire des sources de lumiere secondaires dans le systeme d'eclairage. Une surface, impactee par la radiation EUV (4), du premier element optique (7) est divisee en une pluralite de premiers elements a facettes (8 a 11). Ces derniers sont chacun associes a des faisceaux partiels (12 a 15) de la radiation EUV (4). Un second element optique (20) a l'emplacement des sources de lumiere secondaires est impacte par radiation EUV (4) sur une zone impactable par le biais du premier element optique (7), la surface impactable etant divisee en une pluralite de seconds elements a facettes (21 a 24). Ces derniers sont chacun associes a au moins l'un des premiers elements a facettes (8 a 11) impactant le second element a facettes respectif (21 a 24) pour generer les sources de lumiere secondaires. Le second element optique (20) est au moins une partie d'une configuration optique imageant le premier element optique (8 a 11) dans un plan predetermine par la surface d'objet. Au moins certains des premiers elements a facettes (8 a 11) sont configures et orientes de telle sorte qu'ils sont images dans l'un d'au moins deux champs partiels (31, 32) du champ d'eclairage (2) par la configuration optique. Les champs partiels (31, 32) composent tout le champ d'eclairage (2), et l'intersection entre les champs partiels, le cas echeant, est toujours plus petite que chacun des champs partiels contribuant a l'intersection. Dans le systeme d'eclairage de l'invention, le changement entre divers reglages d'eclairage est possible meme lorsque l'on utilise un second element optique ayant moins d'elements a facettes que dans l'art anterieur.