Verfahren zur herstellung eines nanoskaligen siliciumdioxids

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines nanoskaligen Siliciumdioxids. Es weist folgende Schritte auf : a) zur Verfugung stellen einer wassrigen Suspension eines kolloidalen Siliciumdioxids mit einer mittleren Teilchengrose von 1 bis 500 nm; b) Reagierenlassen mit einem Organosilan oder Organosiloxan in einem aprotischen cyclischen Ether und Silanisierung des kolloidalen Siliciumdioxids; c) Abtrennung der wassrigen Phase der Reaktionsmischung von der organischen Phase; d) nochmaliges Reagierenlassen der organischen Phase mit einem Organosilan oder Organosiloxan in einem aprotischen cyclischen Ether und Silanisierung des kolloidalen Siliciumdioxids; e) Abtrennung der wassrigen Phase der Reaktionsmischung von der organischen Phase.