Chalcogenide Random Access Memory Cell with Structure of W Sub-Microtube Heater Electrode

2007 
为了减少 chalcogenide 随机的重设电流,存取存储器,有 260/100 nm 的外部 / 内部的直径的一个 W sub-microtube 加热器电极,与标准 0.18-μm 技术被制作,第一次被建议完成大约 0.5 妈的重设电流。原因可以是 sub-microtube 增加电极边的数字,因为 sub-microtube 电极的边上的热密度通常最高,热效率极大地被改进。
    • Correction
    • Source
    • Cite
    • Save
    • Machine Reading By IdeaReader
    0
    References
    0
    Citations
    NaN
    KQI
    []