Cible de pulvérisation métallique intégrée dans une plaque d'appui, et son procédé de fabrication

La presente invention concerne une cible de pulverisation metallique integree dans une plaque d'appui, ladite cible de pulverisation metallique etant caracterisee en ce qu'elle possede, a la peripherie de cette derniere, une partie de bride qui sert de plaque d'appui et qui est integree avec la cible, la partie de bride ayant une structure produite par repetition d'une procedure de forgeage partiel. Ainsi, la presente invention aborde le probleme qui consiste a eviter la deformation d'une cible de pulverisation metallique integree dans la plaque d'appui durant une pulverisation, sans alterner les proprietes de pulverisation obtenues de maniere classique, par amelioration de la resistance mecanique d'uniquement la partie de bride de la cible, et permettent ainsi la formation d'une couche mince ayant une uniformite excellente et ce qui ameliore le rendement et la fiabilite d'un produit semi-conducteur dans le niveau de finesse et le niveau d'integration ont toujours augmente.