Composes de precurseurs organometalliques

Cette invention concerne des composes de precurseurs organometalliques representes par la formule (H)mM(R)n, dans laquelle M represente un metal ou un metalloide, R, qui est identique ou different, represente un radical heterocyclique sature ou insature, substitue ou insubstitue, contenant au moins un atome d'azote, m est egal a une valeur comprise entre 0 et une valeur inferieure a l'etat d'oxydation de M, n est egal a une valeur comprise entre 1 et une valeur egale a l'etat d'oxydation de M, et m+n represente une valeur egale a l'etat d'oxydation de M; cette invention concernant egalement un procede de production de ces composes de precurseurs organometalliques, ainsi qu'un procede de production d'un film ou d'un revetement a partir de ces composes de precurseurs organometalliques.