Compositions et procédés pour gravure sélective de nitrure de silicium

L'invention porte sur des compositions qui sont utiles pour eliminer selectivement des materiaux a base de nitrure de silicium, par rapport a des materiaux a base d'oxyde de silicium, d'un dispositif microelectronique sur lequel ils sont situes. Les compositions d'elimination comprennent au moins un alcoxysilane, au moins un agent de gravure, au moins un agent oxydant, au moins un solvant organique et de l'eau.