27pEB-6 高強度XUVレーザーパルス照射によるHeの3光子2電子励起過程におけるパルス幅依存性(27pEB 合同B:領域1(原子分子)・ビーム物理(高強度レーザー・FEL・放射光),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))