기판 처리 장치

본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 상부가 개방되며, 일측에 기판이 출입하는 통로가 형성되는 챔버; 상기 챔버의 상부를 폐쇄하여 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하며, 천정벽을 관통하도록 형성된 가스공급홀을 가지는 챔버덮개; 상기 챔버덮개의 상부 중앙에 설치되어 상기 내부공간의 중앙부에 전계를 형성하며, 상기 내부공간에 공급된 소스가스로부터 플라즈마를 생성하는 상부안테나; 상기 챔버덮개의 측부를 감싸도록 설치되어 상기 내부공간의 가장자리부에 전계를 형성하며, 상기 내부공간에 공급된 소스가스로부터 플라즈마를 생성하는 측부안테나; 그리고 상기 가스공급홀과 연결되어 상기 내부공간에 상기 소스가스를 공급하는 가스공급관을 포함하며, 상기 가스공급홀은 상기 상부안테나의 외측에 배치된다.