Procede pour former un revetement anti-reflechissant

L'invention concerne des resines de silsesquioxane utiles pour former le revetement anti-reflechissant de formule (PhSiO(3-x)/2(OH)x)mHSiO(3-x)/2(OH)x)n(MeSiO(3-x)/2(OH)x)p(RSiO(3-x)/2(OH)x)q ou Ph represente un groupe phenyle, Me represente un groupe methyle, R est choisi parmi des groupes ester et des groupes polyether, x a une valeur de 0, 1 ou 2, m a une valeur de 0,05 a 0,95, n a une valeur de 0,05 a 0,95, p a une valeur de 0,05 a 0,95, p a une valeur de 0,01 a 0,30 et m + n + p + q 1.