Appareil d'apport d'un liquide reactif source et systeme de depot chimique en phase vapeur comportant ledit appareil

Procede et appareil permettant l'apport d'un reactif non volatil sous forme gazeuse. Selon l'invention, un liquide source reactif non volatil est vaporise sur une structure matricielle de vaporisation (26) a haute temperature. Il est possible de faire passer un gaz porteur devant la structure de vaporisation instantanee afin d'obtenir un melange de gaz porteur et de reactif source vaporise. La structure matricielle de vaporisation (26) presente de preference un rapport surface/volume eleve et peut, de facon avantageuse, comprendre un element matriciel poreux du type treillis, sur lequel le liquide reactif source est reparti en vue de la vaporisation instantanee. L'invention est particulierement utile pour l'apport de reactifs et de complexes du Groupe II et de complexes comprenant les premiers metaux de transition tels que le zirconium et le hafnium. Elle peut parfaitement etre employee avec les couches de sources beta-dicetoniques du Groupe II, par exemple du YBaCuO, du BiSrCaCuO, et du TlBaCaCuO, ainsi que pour constituer des intercouches de fluorures de metaux du Groupe II entre des couches de recouvrement de supraconducteur ou d'arseniure de gallium, et enfin pour deposer des couches minces de materiaux photoniques et ferro-electriques, par exemple du BaTiO3, du BaxSr1-xNb2O6, et du PbZr1-xTixO3.