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X線反射率測定により明らかにした単分子層有機単結晶半導体による物理吸着van der Waals界面におけるサブ分子構造緩和【JST・京大機械翻訳】
X線反射率測定により明らかにした単分子層有機単結晶半導体による物理吸着van der Waals界面におけるサブ分子構造緩和【JST・京大機械翻訳】
2020
A. Yamamura
H. Fujii
Y. Wakabayashi
S. Watanabe
J. Takeya
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