プラズマ処理装置用の電極、プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体

【課題】被処理基板の中央部におけるプラズマの電界強度を低くして、これによりプラズマ処理の面内均一性を向上させることが可能なエッチング装置用の上部電極及びこの上部電極を備えたエッチング装置を提供すること。 【解決手段】上部電極の中央部に誘電体を注入するための空間である凹部を設けて、この空間に誘電体を供給する誘電体供給路と誘電体を排出する誘電体排出路を接続する。そして、エッチング処理を行うウェハの種類や使用する処理ガスなどの処理条件において生成するプラズマの電界強度の面内分布に応じて、この電界強度の面内分布が均一となるように、凹部内に誘電体を供給する。 【選択図】図２