Vapor deposition dip coating in a plasma arc at low pressure and ion treatment

Un sistema de recubrimiento que comprende: una camara (12) de vacio; y un montaje de recubrimiento que incluye: una fuente (16) de vapor que tiene una cara de objetivo con una dimension larga de fuente de vapor y una dimension corta de fuente de vapor; un soporte (20) de sustrato para sostener sustratos (22) que van a revestirse de modo que los sustratos (22) esten posicionados en frente de la fuente (16) de vapor, y el soporte (20) de sustrato tiene una dimension de soporte lineal; un anodo (44) remoto electricamente acoplado al objetivo (28) catodico, y el anodo (44) remoto tiene una dimension de anodo remoto lineal, y la fuente (16) de vapor tiene una dimension de fuente de vapor lineal; un montaje (18) de camara catodica que incluye un objetivo (28) catodico, un anodo (34) primario y un escudo (36) que aisla el objetivo (28) catodico de la camara (12) de vacio, y el objetivo (28) catodico tiene una dimension larga de objetivo catodico lineal y una dimension corta de objetivo catodico lineal, y el escudo (36) define al menos una abertura (38) para transmitir una corriente (40) de emision de electrones de una descarga de arco remoto desde el objetivo (28) catodico al anodo (44) remoto que fluye a raudales a lo largo de la dimension larga de cara objetivo; un suministro (48) de energia primario conectado entre el objetivo (28) catodico y el anodo (34) primario; y un suministro (52) de energia secundario conectado entre el objetivo (28) catodico y el anodo (44) remoto , en cuyo caso la dimension de anodo remoto lineal y la dimension corta de fuente de vapor son paralelas a una dimension en la cual se direcciona un punto de arco a lo largo del objetivo (28) catodico.