Composition de résine photosensible, élément photosensible, masque de réserve permanent et procédé de production d'un masque de réserve permanent

La presente invention concerne une composition de resine photosensible comprenant une resine de polyurethanne ayant une liaison non saturee en ethylene et un groupe carboxyle, un compose de polyester phosphore, un sel d'acide phosphinique et un initiateur de photopolymerisation.