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S1660101 ワイドギャップ半導体材料基板の高能率・高品位加工を実現する高速圧加工装置および革新的研磨パッドの開発([S166]窒化物半導体デバイスの精密加工プロセス)
S1660101 ワイドギャップ半導体材料基板の高能率・高品位加工を実現する高速圧加工装置および革新的研磨パッドの開発([S166]窒化物半導体デバイスの精密加工プロセス)
2014
tutomu yamazaki
kiyosi sesimo
masanori ootubo
tyuuiti miyasita
masataka takagi
tosirou toi
Keywords:
Manufacturing engineering
Materials science
high pressure
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