광소결 방법을 이용한 전도성 패턴의 형성 방법 및 이에 의해 형성된 전도성 패턴

본 발명은, (a) 투명 기판(transparent substrate)의 하면에 마스크(mask) 용액을 인쇄하여 IPL(intense pulsed light)에 대한 불투과 영역을 제공하는 마스크 패턴(mask pattern)층을 제작하는 단계, (b) 상기 투명 기판의 상면에 전도성 용액을 도포하여 전도층을 형성시키는 단계, (c) 상기 마스크 패턴층으로 IPL(intense pulsed light)을 조사하는 단계 및 (d) 상기 단계 (c)에서 상기 마스크 패턴층에 의해 IPL이 불투과되어 미소결된 전도층 및 상기 마스크 패턴층을 제거하는 단계를 포함하는 광소결 방법을 이용한 전도성 패턴의 형성 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 전도성 패턴의 형성방법은, 기판의 하면에 인쇄되어 불투과 영역을 제공하는 마스크 패턴층으로 인하여 IPL의 광이 선택적으로 투과되고, 기판의 상면에 형성된 전도층을 마스크 패턴층의 형태로 광소결시킴으로써, 마스크를 사용하여 패턴을 형성하는 종래 기술과 비교하여 공정이 단순해지고 연속적인 공정을 수행할 수 있어 전도성 패턴의 대량 생산을 통해 생산 단가를 낮추는 효과가 있다.