Verfahren zum Herstellen eines Wärmedämmschichtaufbaus

Zum Herstellen eines Warmedammschichtaufbaus (10) auf einer Substratoberflache wird eine Arbeitskammer (2) mit einem Plasmabrenner (4) zur Verfugung gestellt, ein Plasmastrahl (5) erzeugt, indem ein Plasmagas durch den Plasmabrenner (4) geleitet und in demselben mittels elektrischer Gasentladung, elektromagnetischer Induktion oder Mikrowellen aufgeheizt wird, und der Plasmastrahl (5) auf die Oberflache eines in die Arbeitskammer eingebrachten Substrates (3) gelenkt. Zum Herstellen des Warmedammschichtaufbaus wird zusatzlich zwischen dem Plasmabrenner (4) und dem Substrat (3) eine Spannung angelegt, um zwischen dem Plasmabrenner (4) und dem Substrat (3) einen Lichtbogen zu erzeugen, und die Substratoberflache mittels des Lichtbogens gereinigt, wobei das Substrat (3) nach dem Lichtbogenreinigen in der Arbeitskammer verbleibt, und auf der gereinigten Substratoberflache eine Oxidschicht (11) mit einer Dicke von 0.02 µm bis 2 µm erzeugt und in einem weiteren Schritt mittels eines Plasmaspritzverfahrens eine Warmedammschicht (12) aufgebracht.