貴金属触媒層、膜電極接合体、電気化学セルおよび貴金属触媒層の製造方法

【課題】高い触媒活性と十分な耐久性を持つ貴金属触媒層、膜電極接合体、電気化学セルおよび貴金属触媒層の製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明の貴金属触媒層は、空孔率が６５〜９５Vol.％および空孔径が５〜８０ｎｍの空孔の割合が５０Vol.％以上である第１貴金属多孔質層と、前記第１貴金属多孔質層上に形成され空孔率が５０Vol.％以下（０％を含む）および平均厚さが３〜２０ｎｍである第２貴金属多孔質層よりなる。 【選択図】 図１