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正孔注入障壁の減少に対する分子配向の影響 銅フタロシアニン(CuPc)/ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル(HAT‐CN)/グラフェン
正孔注入障壁の減少に対する分子配向の影響 銅フタロシアニン(CuPc)/ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル(HAT‐CN)/グラフェン
2016
Jeong Junkyeong
Park Soohyung
Kang Seong-Jun
Lee Hyunbok
Yi Yeonjin
Keywords:
Photochemistry
Inorganic chemistry
Chemistry
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