Tampon de polissage

L'invention porte sur un tampon de polissage (14) qui est approprie pour polir des matieres semi-conductrices extremement dures. Le tampon de polissage precite (14) est utilise pour polir, en combinaison avec des grains abrasifs libres et il comporte un tissu qui comprend des fibres organiques a haute resistance, possedant une resistance a la traction d'au moins 15 cN/dtex, et qui est situe sur une surface (15) pour polir un objet a polir (16). Dans le tissu, la finesse de fibre individuelle des fibres organiques a haute resistance peut etre, par exemple, d'environ 0,3 a 15 dtex, et la finesse totale des fibres organiques a haute resistance peut etre d'environ 3 a 3.000 dtex. Les fibres organiques a haute resistance comprennent, par exemple, des fibres de polyester entierement aromatiques.