アルカリ液の製造方法，アルカリ液，パターン形成方法，レジスト膜の剥離方法，薬液塗布装置，基板処理方法，及び薬液供給方法

(57)【要約】 （修正有） 【課題】レジスト膜の現像時に欠陥が発生したり、疎密 パターンに寸法差が生じたりすることを抑制する。 【解決手段】表面に露光済みの感光性レジスト膜が形成 された被処理基板１００に対して、現像液供給ノズル１ １１から酸化性又は還元性を有する気体分子が溶解され た現像液を供給して感光性レジスト膜の現像を行い、レ ジスト膜と生成物との親和力の内面分布を抑制し、局所 的に現像中に発生する現像速度の違いを低減する。ま た、反応生成物は現像液中に速やかに拡散され、アルカ リ濃度差によって生じる疎密寸法差を低減する。