（Ce0.8Sm0.2O2-δ/Y2O3：ZrO2）N超晶格电解质薄膜的制备及表征

采用脉冲激光沉积技术（PLD）,在MgO单晶基底上,依次沉积氧化钐掺杂的氧化铈（Ce0.8Sm0.2O2-δ,SDC）和钇稳定氧化锆（8 mol%Y2O3：ZrO2,YSZ）制备了五种（SDC/YSZ）N（N=3,5,10,20,30）超晶格电解质薄膜.利用X射线衍射（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HR-TEM）和交流阻抗对其形貌、相结构和电学性能进行了表征.结果显示,（SDC/YSZ）N超晶格电解质薄膜之间形成了明显的界面和较好的超晶格结构;薄膜表面颗粒生长均匀、致密、平滑,在薄膜的界面处没有元素相互扩散也未出现裂纹,外延生长良好;电导率随着（SDC/YSZ）N超晶格电解质界面数的增加而增加,而活化能则随之减少,是较为理想的低温固体氧化物燃料电池电解质.