Verfahren zur herstellung eines rohrförmigen halbzeugs aus quarzglas, verfahren zur herstellung eines optischen bauteils unter einsatz des halbzeugs, sowie halbzeug aus fluordotiertem quarzglas

Um ein allgemein bekanntes Verfahren zur Herstellung von fluordotiertem Quarzglas, bei dem mittels eines Plasma-Abscheideprozesses SiO 2 -Partikel in Gegenwart von Fluor gebildet und schichtweise auf einem Aussenmantel eines um seine Langsachse rotierenden, zylinderformigen Substratkorpers aus Quarzglas abgeschieden und zu einer Schicht aus Quarzglas mit einem Fluorgehalt von mindestens 1,5 Gew.-% verglast werden, dahingehend zu verbessern, dass ein Halbzeug aus Quarzglas mit hohem Fluorgehalt erhalten wird, das sich durch eine hohe Grundtransmission im UV-Wellenlangenbereich auszeichnet, wird erfindungsgemas vorgeschlagen, dass der Substratkorper mindestens im Bereich des Aussenmantels eine Reservoirschicht aus Quarzglas aufweist, das einen Hydroxylgruppengehalt von 200 Gew.-ppm oder mehr und/oder einen Wasserstoffgehalt von 1 x 10 17 Molekulen/cm 3 oder mehr aufweist, und dass der Substratkorper nach dem Abscheiden der mit Fluor dotierten Quarzglasschicht entweder vollstandig oder teilweise entfernt wird.