Dispositif de lithographie euv et procédé pour traiter un élément optique

La presente invention concerne un dispositif de lithographie EUV comportant : un dispositif d’eclairage destiner a eclairer un masque en une position d’eclairage dans le dispositif de lithographie EUV, ainsi qu’un dispositif de projection pour former une structure prevue sur le masque sur un substrat photosensible. Le dispositif de lithographie EUV est equipe d’un dispositif de traitement (15) permettant le traitement, declenche de preference localement, d’un element optique (6a), en particulier le masque, en une position de traitement dans le dispositif de lithographie EUV. Pour activer au moins un composant gazeux du flux gazeux (27), le dispositif de traitement (15) comporte une source de rayonnement permettant de generer un rayonnement, un generateur de particules (30) permettant de generer un faisceau de particules, en particulier un faisceau d’electrons (30a), et/ou un generateur de hautes frequences.