パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス

【課題】優れたＰＥＢ温度依存性と優れた疎密依存性とを高次元で両立できるパターン形成方法、パターン形成方法に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、パターン形成方法を用いる電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。 【解決手段】（Ａ）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含む感活性光線又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、 該膜を露光する工程、並びに、露光された膜を有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であって、樹脂（Ａ）が、極性基が酸の作用により分解し脱離する脱離基で保護された構造を有し、脱離基が一般式（Ｉ）で表される基である、パターン形成方法、パターン形成方法に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし