Diseño y construcción de una fuente de polarización (BIAS) automatizada para mejoramiento de propiedades físicas y químicas de recubrimiento funcionales por la técnica PAPVD

En la actualidad existe la gran necesidad de incorporar nuevas variables que mejoren los resultados obtenidos en el proceso de crecimiento de peliculas delgadas por las tecnicas asistidas por plasma, una de esas variables es el voltaje de polarizacion de las muestras o voltaje Bias, el cual es un voltaje negativo que permite arrastrar con mayor eficiencia la descarga de plasma hacia la muestra obteniendo de esta manera mejores resultados. En este trabajo se presenta el diseno y construccion de una fuente negativa de polarizacion (Bias) automatizada, que permite lograr altos desempenos en la produccion de recubrimientos funcionales, tales como la disminucion en los tiempos de produccion y la supervision constante de la variable a traves de una interfase grafica desarrollada en LabVIEW. Todo el sistema esta compuesto por una fuente de potencia negativa variable en un rango de 0 a -600 Voltios la cual es controlada mediante la interfase grafica, permitiendo de esa manera tener control directo sobre la variable y establecer los valores y/o parametros a la cual se quiere llevar el sistema antes y despues de realizar la descarga.