Pd在p型单晶硅(100)表面自催化化学沉积
2007
研究了Pd在氢终止的P型单晶硅(100)表面的自催化化学沉积(AED).在室温下将刻蚀过的硅片浸入常规的HF—PdCh—HCl溶液制备了Pd膜.将沉积了Pd的基底作为工作电极,用循环伏安法(CV)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了Pd膜的阳极溶出行为和形貌.结果表明,Pd的生长遵循Volmer-Weber(VW)生长模式,Pd膜给出了很好的支持.
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