Composition de résine sensible au rayonnement

La presente invention concerne une composition de resine sensible au rayonnement qui contient un compose [A] represente par la formule (1) et un polymere [B] servant de resine de base. Dans la formule (1), R 1 est de preference un groupe d'hydrocarbure C 3-20 alicyclique monovalent, M + de preference un cation sulfonium ou un cation iodonium et le polymere [B] de preference un polymere insoluble en milieu alcalin ou difficilement soluble en milieu alcalin comportant un motif structural represente par la formule (5) ou un motif structural represente par la formule (6) et un motif structural represente par la formule (7).