レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物およびその製造方法、ならびに酸発生剤

【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物を提供する。 【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）が、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ Ｎ は窒素原子を有する有機基であり；Ｒ １ はアルキレン基であり；Ｙ １ は炭素数１〜４のアルキレン基またはフッ素化アルキレン基であり；Ｚ ＋ は有機カチオン（ただしＮ ＋ （Ｒ ３ ）（Ｒ ４ ）（Ｒ ５ ）（Ｒ ６ ）で表されるイオンを除く。Ｒ ３ 〜Ｒ ６ はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｒ ３ 〜Ｒ ６ のうちの少なくとも１つは前記炭化水素基であり、Ｒ ３ 〜Ｒ ６ のうちの少なくとも２つが相互に結合して環を形成していてもよい。）である。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む。 ［化１] 【選択図】なし