リソグラフィの基板を準備する方法、基板、デバイス製造方法、密封コーティングアプリケータ及び密封コーティング測定装置

【課題】リソグラフィ投影装置に使用する汚染の源を減少させる基板を提供する。 【解決手段】基板Ｗは、基板上の２つの層１００、１０２の間、又は層と基板の間の第一インタフェースの少なくとも一部を覆い、基板の中心部分まで延在しない密封コーティング１０６を含む。この密封コーティングにより、液浸液及びリソグラフィ装置の１つ又は複数のコンポーネントの汚染の危険を軽減するリソグラフィ投影装置に使用する基板、およびデバイス製造方法を提供することが出来る。 【選択図】図７