Gravação e caracterização de nanoestruturas bidimensionais em relevo

Nesta tese foram desenvolvidos processos para gravacao de nanoestruturas bidimensionais em relevo, utilizando-se exposicoes holograficas e litografia. Sao descritas as condicoes experimentais para a gravacao de mascaras em fotorresina com diferentes perfis, assim como para a litografia do padrao bidimensional em tres diferentes materiais: aluminio, niquel e carbono amorfo hidrogenado. Para a litografia foram utilizadas tecnicas de lift off, evaporacao termica, eletrodeposicao seletiva, deposicao quimica na fase vapor assistida por plasma (PECVD), e corrosao por plasma reativo (RIE). Foram estudadas tres propriedades opticas apresentadas pelas nanoestruturas bidimensionais fabricadas em materiais dieletricos e metalicos: efeito anti-refletor, existencia de bandas proibidas de propagacao para fotons, e efeito de transmitância extraordinaria. Alem do estudo teorico, foram realizadas medidas experimentais do efeito anti-refletor em estruturas gravadas em fotorresina sobre vidro, e da transmitância extraordinaria de nanofuros em filmes metalicos Abstract