Production method and heat treatment method for TiO2-SiO2 glass body, TiO2-SiO2 glass body, EUVL optical substrate

本発明は、透明ガラス化後のＴｉＯ ２ −ＳｉＯ ２ ガラス体の徐冷点をＴ １ （℃）とするとき、透明ガラス化後のガラス体をＴ １ −９０（℃）からＴ １ −２２０（℃）までの温度域に１２０時間以上保持する工程を含む、ＴｉＯ ２ −ＳｉＯ ２ ガラス体の製造方法に関する。