Teilchenstrahlinduzierte Prozesse an dielektrischen Oberflächen

The possibilities for surface and depth profile analysis of dielectric samples with partially modified electron and mass spectrometric methods are described. The respective techniques have been employed for the quantitative characterization of electron and ion beam induced stoichiometry effects at glass surfaces. Es wird uber teilweise neuentwickelte Moglichkeiten zur Oberflachen- und Tiefenprofilanalyse dielektrischer Proben wie oxidischer Glaser mit elektronen- und massenspektrometrischen Methoden berichtet. Die entsprechend modifizierten Verfahren werden zur quantitativen Charakterisierung von elektronen- und ionenstrahlinduzierten Stochiometrieeffekten an Glasoberflachen eingesetzt.