Traitement d'un récipient

L'invention porte sur un appareil de depot en phase vapeur par procede chimique assiste par plasma (PECVD) pour le revetement d'une surface interieure d'un recipient. L'appareil comprend un porte-recipient comprenant un orifice de recipient configure pour recevoir et mettre en appui une premiere ouverture du recipient pour le traitement de la surface interieure du recipient mis en appui par l'intermediaire de l'orifice de recipient, une electrode interne devant etre agencee dans un espace interieur du recipient mis en appui, une electrode externe ayant une partie interieure pour recevoir le recipient mis en appui, et une alimentation electrique pour creer un plasma a l'interieur du recipient, le recipient mis en appui et le porte-recipient etant aptes a definir une chambre de reaction a plasma.