Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie

Dizertacni prace je zaměřena na litograficke techniky v mikronovem a sub mikronovem rozliseni. Zaměřuje se na technologii elektronove litografie, technologii zapisu do polymernich materialů (elektronových rezistů), nasledných procesů zpracovani expozice, vcetně vyvolani rezistu mokrou cestou. K vyhodnoceni struktur připravených zapisem elektronovým svazkem se nejcastěji použiva skenovani reliefu pomoci mikroskopu atomarnich sil (AFM). Tento způsob vyhodnoceni umožňuje mezioperacni kontrolu, ktera neni běžně možna s pomoci rastrovaci elektronove mikroskopie(SEM). Teto metodě je věnovana druha kapitola prace. V dalsi casti se prace soustřeďuje na rozptyl elektronů při interakci s pevnou fazi (neboli jev blizkosti), který může významně ovlivnit rozliseni struktur zapisovaných elektronovým svazkem. Pochopeni a popis tohoto jevu vede k vývoji metod umožňujicich omezit vliv tohoto jevu na kvalitu a rozliseni realizovaných struktur. V teto kapitole jsou popsany navržene expozicni testy a jejich vyhodnoceni pomoci mikroskopických snimků AFM, SEM, optickeho mikroskopu (OM) a konfokalniho mikroskopu (CLSM), ktere měly posloužit ke zjistěni jednotlivých parametrů modelu rozptylove funkce. Z těchto navržených testů se podařilo zjistit pouze parametr dopředneho rozptylu. V posledni casti se prace věnuje popisu nanolitografických technik s pomoci AFM, zejmena pak metodě přimeho ryti do polymernich materialů, ktere zůstavalo stranou hlavniho zajmu předchozich výzkumů. Jsou zde shrnuty výsledky zapisu do různých typů rezistů jak v kontaktnim, tak i nekontaktnim režimu AFM, a dale s použitim různých hrotů (hroty s Diamond-like carbon (DLC) vrstvou a křemikove hroty).