Propriétés de tampon améliorées utilisant des additifs de nanoparticule

La presente invention concerne un procede de formation d’un milieu de polissage et d’un article de fabrication. L’article de fabrication peut etre forme en un article de polissage. L’article de polissage comprend un materiau de base polymere et une pluralite de structures d’echelle nanometrique disposes dans ou sur le materiau de base polymere.