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ゲート絶縁膜における光照射損傷と光酸化を用いたポリシリコン TFT 用積層絶縁膜の電気特性
ゲート絶縁膜における光照射損傷と光酸化を用いたポリシリコン TFT 用積層絶縁膜の電気特性
2003
okamoto tetuya
Keywords:
Thin-film transistor
Electronic engineering
Materials science
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