0.74Pb（Mg_（1/3）Nb_（2/3））O_3-0.26PbTiO_3薄膜的光学性能研究

采用磁控溅射法,选用LaNiO3（LNO）作为缓冲层和电极层,在硅基片上成功地制备出了0.74Pb（Mg1/3Nb2/3）O3-0.26PbTiO3（PMN-0.26PT）铁电薄膜.X射线衍射（XRD）分析表明薄膜具有沿（110）方向择优取向的钙钛矿结构.利用NKD光谱测试仪测试了薄膜的反射谱,并使用最小二乘法进行拟合分析得到其折射率和消光系数.在沉积温度为500℃时,薄膜具有更为均匀和致密的微观结构.在波长为633 nm时,该薄膜的折射率大小为2.41.薄膜的折射率和消光系数随着光子能量的增加而增加.薄膜的这些光学特性使其有望在低压电光转换器、光波导等器件中应用.