制备温度对SnO2／Au／SnO2三层结构透明导电薄膜光学和电学特性的影响

采用脉冲激光沉积技术在石英衬底上制备了SnO2（40nm）／Au（8nm）／SnO2（40nm）三层薄膜结构．分别利用扫描电子显微镜、紫外可见光分光光度计、四探针电阻测试仪等研究了制备温度对多层薄膜的形貌、结构和光电性能的影响．结果表明，制备温度对SnO2／Au／SnO2透明导电薄膜的光电性能有较大影响，随着衬底温度的升高，三层膜的品质因数逐渐下降．当制备温度为20℃，SnO2／Au／SnO2在可见光区（400—800nm）的平均透过率为69．7％，面电阻为6．8Ω／sq，薄膜具有最佳品质因数3．96×10^-3Ω^-1．