Fabrication d'un circuit integre au moyen de la lumiere polarisee

Procede et appareil pour fabriquer un circuit integre, qui utilisent les avantages de la lumiere polarisee et de la lumiere decalee en phase pour obtenir une particularite fine. On obtient la particularite du circuit integre en exposant une premiere region a la lumiere qui a un premier etat de polarisation, en exposant une deuxieme partie de la tranche a la lumiere polarisee dans le deuxieme etat de polarisation, mais qui est egalement decalee en phase d'environ 180 degres. Une region entre les premiere et deuxieme regions peut ne pas etre exposee a la lumiere. La region entre les premiere et deuxieme regions correspond a la position de la particularite fine. Dans les zones ou l'on doit joindre la premiere a la deuxieme regions mais ou l'on a pas d'intention de former de particularite, il existe une troisieme region entre les premiere et deuxieme regions, qui est exposee a la lumiere polarisee qui possede un deuxieme etat de polarisation, orthogonal a celui de la lumiere polarisee qui expose les premiere et deuxieme regions. Le resultat est le suivant: la frontiere entre les premiere ou deuxieme regions et la troisieme region est completement exposee. De cette maniere, il n'existe aucun artefact ni aucune particularite formee dans cette frontiere entre les premiere et deuxieme regions. On fabrique des masques avec des regions correspondant aux premiere, deuxieme et troisieme regions, de maniere a ce que la lumiere dans ces etats polarise et de decalage de phase soit envoyee correctement au circuit integre.