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中性粒子ビームALD法により作製したHfO 2 膜の構造解析と電気特性評価
中性粒子ビームALD法により作製したHfO 2 膜の構造解析と電気特性評価
2008
Ikoma Tooru
Sano Keisuke
Koganezawa Tomoyuki
Hirosawa Ichiro
Samukawa Seiji
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Engineering
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