Chambre à vide à structure variable pour contrôle de simulation d'écoulement d'air raréfié interne et détection de pression

La presente invention porte sur une chambre a vide a structure variable pour controle de simulation d'ecoulement d'air rarefie interne et detection de pression, qui appartient au domaine de fabrication de dispositif semi-conducteur. La chambre comprend un couvercle superieur, une plaque de gaz, une cavite, une partie de revetement remplacable, un support de revetement, une base, un dispositif d'echappement, un espace de detection de champ d'ecoulement et un tuyau de detection de pression d'air. L'espace de detection de champ d'ecoulement est de forme cylindrique, le diametre de cylindre peut etre regle par changement de la partie de revetement remplacable, et la hauteur du cylindre peut etre reglee par soulevement de la base, de maniere a changer la dimension de structure de l'espace de detection de champ d'ecoulement. La structure peut etre utilisee pour realiser une gravure, un depot active par plasma/chimique en phase vapeur (PE/CVD), un depot physique en phase vapeur (PVD), une technique de diffusion d'oxydation et une experimentation de processus en phase vapeur basse pression pour des chambres ayant des caracteristiques communes. Il peut detecter un espace interne et des parametres de pression sur chaque trajet d'intervalle de differentes chambres structurees, peut rechercher une regle d'influence a propos de chaque parametre de processus basse pression et peut ameliorer de maniere remarquable la fiabilite de conception d'optimisation des elements de chambres d'equipement de circuit integre (CI).