ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、ケイ素含有反射防止膜、及び、これを用いた基板加工中間体及び被加工基板の加工方法

【解決手段】波長２００ｎｍ以下の露光光を使用するフォトリソグラフィー法において、反射防止膜形成用組成物が、少なくとも１種の式（１） Ｒ (6-m) Ｓｉ 2 Ｘ m （１） （Ｒは一価炭化水素基、Ｘはアルコキシ基、アルカノイルオキシ基又はハロゲン原子、６≧ｍ≧３。） で示されるケイ素−ケイ素結合を有する加水分解性シラン化合物を含有する反応液を加水分解縮合して得たケイ素含有ポリマーを含有するケイ素含有反射防止膜形成用組成物。 【効果】本発明の組成物は、その上に形成したフォトレジスト膜の良好なパターンを形成でき、有機材料との間で高いエッチング選択性が得られ、被加工基板の高い加工精度を得ることを可能とする。 【選択図】なし