Special articles on zeolite chemistry and technology. Pore size control of Y-type zeolite by chemical vapor deposition of tetraethoxysilane.

化学蒸着 (CVD) 法によるY型ゼオライトの細孔径制御について検討した。シラン化剤にテトラエトキシシランを用いエーテル共存下, 固定床流通型反応器中で CVD を行なった。このように調製した試料の細孔径を分子径の異なる炭化水素の吸着特性から評価した。1回処理した試料で 1,3,5- トリイソプロピルベンゼンが吸着しなくなった。3回処理で 1,3,5- トリメチルベンゼンが吸着しなくなり, また, 2,2,4- トリメチルペンタンの吸着速度も遅くなった。4回処理でキシレン類の競争吸着におけるパラ選択性が 50% を越えた。さらに, 5回処理ではヘキザンの吸着速度が遅くなった。このようにCVDをくり返すと細孔径は徐々に小さくなることが確認された。すなわち, 細孔径は 7.2Å (1回処理 ), 6.6Å (2回処理), 6.3～5.8Å (3回処理), 5.1Å (4回処理), 4.3Å (5回処理)。また, この細孔径制御はシリカバインダーには影響されなかった。