Procedes de depot de couches de couverture sur des substrats de metaux anodisables et produits obtenus

On decrit de nouveaux procedes de depot de couches metalliques sur des substrats de metaux anodisables tels que l'aluminium et ses alliages. Les couches sont deposees directement sur une couche poreuse anodisee qui a ete produite a la surface du substrat. Du metal bouche-pores est d'abord depose par electrolyse dans les pores et le metal se depose initialement sur le fond et les parties inferieures des parois laterales; normalement jusqu'a ce que les pores soient entre 3 % et 30 % remplis. Ensuite, le depot de metal est poursuivi par un procede sans courant jusqu'a ce que les pores soient remplis au niveau souhaite, et normalement jusqu'a ce qu'une couche de support ait ete deposee sur toute la surface de la couche anodisee. D'autres couches metalliques peuvent ensuite etre deposees sur la couche de support, soit par des procedes sans courant soit par des procedes catalytiques. Des couches anelectrolytiques a epaisseur considerable (jusqu'a 75 micrometres) peuvent etre deposees avec succes. Les nouveaux produits de ces procedes comprennent un substrat en metal anodisable dont l'epaisseur est comprise entre environ 0,5 et environ 50 micrometres; les pores de la couche anodisee contiennent un depot catalytique de metal bouche-pores, et un depot catalytique de metal bouche-pores depose sur la couche de metal depose par electrolyse. Le metal catalytique peut constituer la derniere couche, ou d'autres couches peuvent etre deposees par dessus afin de former le produit final. Le metal a depot electrolytique interpose assure une adhesion amelioree au materiau anodise par rapport au metal a depot catalytique direct.