Dispersion aqueuse pour polissage mécano-chimique et procédé de polissage mécano-chimique

L'invention porte sur une dispersion aqueuse pour polissage mecano-chimique, qui contient (A) des particules de silice et (B1) un acide organique. Les particules de silice (A) presentent une propriete chimique telle que leur densite de groupe silanol, calculee sur la base de la surface specifique determinee a l'aide d'un procede BET et la quantite de groupes silanol determinee par titrage, est de 1,0 a 3,0 groupes/nm 2 .