Compositions de couche de finition et d'additif de résine photosensible contenant des groupes sulfonamides et leurs procédés d'utilisation

L'invention porte sur des compositions, des polymeres de couche de finition et des additifs polymeres contenant des groupes sulfonamides destines a etre utilises dans des procedes lithographiques, qui ont des angles de contact sortants statiques avec l'eau ameliores par rapport a ceux de l'etat de la technique. Les polymeres de couche de finition et les additifs polymeres contenant des groupes sulfonamides de la presente invention comprennent des motifs repetes substitues par sulfonamide assortis d'un groupe de liaison ramifie comme represente dans la formule (I).