反射防止膜材料、基板、及びパターン形成方法

【課題】反射防止膜とフォトレジスト膜の界面付近のインターミキシングの発生を抑制でき、また、反射防止膜の上のレジストパターンをほぼ垂直形状にすることができ、さらに、反射防止膜の下層のダメージを低減することができる反射防止膜材料を提供する。 【解決手段】リソグラフィーで用いられる反射防止膜材料であって、該反射防止膜材料が、少なくとも、質量平均分子量が３００００以下であって、分子量が６００未満の成分が全体の５％以下である光吸収性シリコーン樹脂と、分解温度が２００℃以下の第一の酸発生剤と、有機溶剤を含むものであることを特徴とする反射防止膜材料。 【選択図】なし