Contrôle in situ de l'épaisseur et des propriétés optiques de films transparents par spectrométrie optique

La spectrometrie d'emission optique est une technique couramment utilisee pour le controle du procede de pulverisation cathodique magnetron en condition reactive, qui ne permet toutefois pas la determination in situ du debit critique de gaz reactif autorisant la synthese a grande vitesse d'un revetement ceramique stoechiometrique. Nous presentons ici une methode consistant a exploiter les phenomenes interferometrique en transmission intervenant lors de la synthese de films transparents sur substrats transparents. Cette methode permet, outre la determination in situ du debit critique de gaz reactif conduisant a la synthese a grande vitesse d'un revetement stoechiometrique, la determination in situ ou ex situ de l'epaisseur et des indices optiques du film synthetise.